光机所

上海光机所在全息光刻研究方面取得进展

近日，中国科学院上海光学精密机械研究所高端光电装备部李思坤研究员团队在全息光刻研究方面取得进展。相关成果以”Synthetic holographic mask design for computational proximity lithography us

图1 (a)结构光照明显微鬼成像系统示意图;(b)成像空间分辨率提升示意图，从左到右分别为传统宽场、传统SIM、GISC-SIM频谱范围;(c)荧光微球超分辨成像实验结果;(d)玉米茎细胞三色成像实验结果。